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联影医疗请求成像平面校对专利校对对应的至少两个成像平面

产品时间:2024-01-05 来源:干法制粒机

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详细介绍

  金融界2023年11月29日音讯,据国家知识产权局公告,上海联影医疗科技股份有限公司请求一项名为“一种成像平面校对办法、体系、设备和存储介质“,公开号CN117129495A,请求日期为2023年8月。

  专利摘要显现,本说明书施行例供给一种成像平面校对办法、体系和存储介质,该办法有:将模体摆放在扫描孔径的偏疼方位,并获取至少两个探测器平面对应的模体的至少两组投影数据;经过模体的至少两组投影数据,获取至少两个探测器平面对应的至少两组机械误差;依据至少两个探测器平面对应的至少两组机械误差,校对对应的至少两个成像平面。

  证券之星估值剖析提示联影医疗盈余才能杰出,未来营收成长性优异。归纳基本面各维度看,股价偏高。更多

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